Equipamiento: técnicas de fabricación

El IMM cuenta con las siguientes técnicas para la fabricación de nanoestructuras y nanodispositivos:
  • Epitaxia de haces moleculares (MBE) de semiconductores III-V (In, Ga, Al, As, P, Sb)
  • Pulverización catódica en ultra alto vacío de metales y semiconductores compuestos
  • Deposición de metales: por haz de electrones, evaporación térmica y pulverización
    catódica
  • Ataques químicos: ataque húmedo y ataque seco por haces de iones reactivos (RIBE,
    RIE)
  • Litografía de ultra-violeta
  • Litografía coloidal
  • Técnicas de nanolitografía: Litografía por haz de electrones, Litografía por haz de iones,
    oxidación por AFM
  • Fabricación de nanoestructuras semiconductoras:
     — Pozos, hilos y puntos cuánticos de semiconductores III-V por MBE
     — Nanohilos de Si por CVD
  • Fabricación de nanoestructuras magnéticas, plasmónicas y magnetoplasmónicas en ultra alto vacío por pulverización catódica (DC y RF), célula Knudsen y evaporador por cañón de electrones
  • Fabricación de cristales fotónicos 2D
  • Procesos de fabricación por electroquímica:
     — Membranas de alúmina porosa (15 nm < Φ < 400 nm)
     — Electrodeposición de semiconductores
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